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CMP纳米二氧化硅
来源: 作者:中硅高科管理员 发布时间:2022年07月29日
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  硅溶胶主要用于精密铸造、造纸、纺织、涂料及电子等工业,其中高纯硅溶胶主要应用于化学机械抛光(CMP)用抛光液的主要研磨料材料。高纯硅溶胶是化学机械抛光(CMP)的抛光液的主要研磨料材料。化学机械抛光(CMP)是化学腐蚀与机械磨削相结合的一种抛光方法,是集成电路制造过程中实现晶圆表面平坦化的关键工艺,产品质量满足半导体行业要求。

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